В России решено разработать рентгеновский литограф для производства микрочипов с расстоянием между логическими элементами в 28 нм. Бета-версия устройства, пригодная для выпуска продукции, может быть готова через пять лет.
Об этом сообщает ТАСС со ссылкой на руководителя Национального центра физики и математики в Сарове, академика РАН Александра Сергеева. По его словам, проект будут осуществлять консорциум, включающий ряд академических институтов и учреждений Росатома, а также частные инновационные компании.
В ближайшие два года должен быть готова "альфа-версия" рентгеновского литографа – в ней "на лабораторном столе демонстрируется работоспособность многочисленных узлов сложнейшего устройства". Бета-версии – работающего на производство чипов прототипа, собранного в единый комплекс – придется подождать еще три года.
"У нас в стране есть практически все компетенции, чтобы через пять лет появился отечественный прототип литографа с технологией на 28 нанометров", – заявил Сергеев.
Большую часть интеллектуальной собственности, необходимой для разработки современных машин по производству микропроцессоров, контролируют США. Это обстоятельство Вашингтон использует для давления на геополитических конкурентов – например, запретив экспорт такого оборудования (даже выпускаемого в других странах) в Китай.
Пекин уже не первый год ежегодно инвестирует миллиарды долларов в создание собственных технологий производства микрочипов. Производство 28-нанометровых чипов на местных фабриках идет уже несколько лет. Осенью 2022-го года стартовал выпуск более продвинутых 14-нанометровых микросхем. Ведется разработка оборудования, позволяющего производить 7-нанометровые микросхемы.
- Если Вам понравилась статья, рекомендуем почитать
- Илон Маск решил передать Пентагону контроль над частью Starlink
- MCPE 1.21, 1.21.40 и 1.21.0: полная версия
